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2023-09-13
化學鍍鎳技術是采用金屬鹽和還原劑,在材料表面上發(fā)生自催化反應獲得鍍層的方法。到目前為止，化學鍍鎳是國外發(fā)展最快的表面處理工藝之一，且應用范圍也...
2023-09-12
干法刻蝕（Dry Etching）是使用氣體刻蝕介質(zhì)。 常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕（如離子束刻蝕）和化學氣相刻蝕（如等離子體刻蝕）等。 與干法蝕刻相...
2023-09-11
開發(fā)EUV光源面臨的最大挑戰(zhàn) 在于。如何在提高EUV光源瓦數(shù)的同時，降低等離子氣氛中微粒、高速粒子和其它污染物，否則光源將會快速惡化。EUV光...
2023-09-07
磁控濺射（Magnetron Sputtering）是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝，是制造半導體、磁盤驅動器和光學膜層的主要薄膜沉積方法。磁控濺射具有...
2023-09-06
（一）硅表面微機械加工技術 美國加州大學Berkeley分校的Sensor and Actuator小組首先完成了三層多晶硅表面微機械加工工藝，確立了硅表面微加工工藝...
