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2023-09-04
顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。最常見的顯影方法是旋轉(zhuǎn)...
2023-09-01
EUV與現(xiàn)有光刻技術的主要區(qū)別，在于極紫外投影光刻系統(tǒng)使用了反射式掩模。反射式掩模采用堅固的背支撐結構．可以有效地防止由裝校應力以及熱應力產(chǎn)...
2023-08-30
臨床醫(yī)學全面走向個性化醫(yī)療診療是當今醫(yī)學發(fā)展的一大方向，精準的體外診斷技術是正確診療的基本保證。而體外診斷基本主要是基于體液（血液，尿液，唾...
2023-08-30
光刻機的工作過程是這樣的：逐一曝光完硅片上所有的場（field），亦即分步，然后更換硅片，直至曝光完所有的硅片；當對硅片進行工藝處理結束后，更換掩...
2023-08-29
激光直寫光刻(laser direct write lithography，LDWL)作為一種無掩模光刻技術，是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影...
2023-08-29
離子刻蝕主要應用在微電子制作工藝中，所有主要的處理對象是硅，用于精確圖形轉(zhuǎn)移。此外其還廣泛應用于等離子刻蝕平板、薄膜刻蝕以及纖維刻蝕中。 1.精...
